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          碳化硅
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          碳化硅晶片生產流程及清洗技術

          文章出處:粉體網網責任編輯:作者:山川人氣:-發表時間:2022-03-17 14:52:00【

          碳化硅晶片經過清洗可以有效去除表面沾污和雜質,同時保證不引入新的雜質,從而使最終的碳化硅晶片產品滿足半導體下游客戶的要求。

          傳統的硅襯底材料使用RCA標準清洗方法來去除材料表面的污染,但是碳化硅是一種極性晶體,表面帶有一定的電荷,吸附污染物后變得更加難以清洗。

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